技術レター［ＬＳＩ製造＆パッケージ］〜ＡｒＦ露光技術　０．１μｍ以降への　適用目指すベルギーＩＭＥＣ
日経マイクロデバイス　第201号　2002.3.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第201号（2002.3.1）
ページ数	1ページ　（全238字）
形式	PDFファイル形式　（80kb）
雑誌掲載位置	31ページ目

露光技術研究・開発微細化　ベルギーＩＭＥＣは，ＡｒＦエキシマ・レーザー露光技術の研究・開発を０．１μｍ以降向けにシフトする。１９９９年から０．１３μｍ向けを中心に研究・開発してきたが，ＡｒＦ露光技術を０．１μｍ以降に使う可能性が高くなった。これに対応して，開口数（ＮＡ）が０．７５のオランダＡＳＭ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ社（ＡＳＭＬ）の露光装置と東京エレクトロンの塗布現像装置を２００２年３月に稼働さ…