μレポート［ＬＳＩ製造］〜「ムーアの法則」死守に向け 国際協力体制を加速させる Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ＳＥＭＡＴＥＣＨ
日経マイクロデバイス 第200号 2002.2.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第200号（2002.2.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1674字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （47kb） |
| 雑誌掲載位置 | 140ページ目 |
研究開発共同開発微細化「ムーアの法則」を死守するために，米Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ＳＥＭＡＴＥＣＨ（ＩＳＭＴ）社が微細加工技術開発の国際的な協力体制の構築を急いでいる。半導体先端テクノロジーズ（Ｓｅｌｅｔｅ）との協力関係に加え，世界中の英知の結集に向けて動き始めた。世界の研究機関を集めて協力体制のあるべき姿を議論し始めている。ＩＳＭＴのＰｒｅｓｉｄｅｎｔ ａｎｄ Ｃｈｉｅｆ Ｅｘｅｃｕｔｉｖｅ…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全1674字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
論文［ＬＳＩ設計］〜システムＬＳＩ技術基盤の課題 ＩＰ検索・評価・品質を解決
μレポート［ＬＳＩ製造］〜ＰＣ関連市場が １２月末から急回復 半導体も液晶も不足
μレポート［ＬＳＩ製造］〜半導体不況下でも ３００ｍｍ，微細化に 投資するＩｎｔｅｌの真意
μレポート［ＬＳＩ製造］〜ＭＲＡＭの量産展開に向け 多層膜成膜装置の 採用が本格化
連載［技術者の経営教室］〜半導体の知的財産権は 不況を克服するカギか
