技術レター[LSI製造&LSI設計]〜ロジックLSI製造技術との 互換性を重視する米Intelの 不揮発性メモリー戦略
日経マイクロデバイス 第199号 2002.1.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第199号(2002.1.1) |
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ページ数 | 1ページ (全603字) |
形式 | PDFファイル形式 (26kb) |
雑誌掲載位置 | 31ページ目 |
不揮発性 メモリー戦略製造技術 米Intel Corp.のVice President, Technology & Mfg. Group兼Director, California Technology & Mfg., Communication TechnologyであるStefan K. Lai氏は不揮発性メモリー技術に対する同社の戦略を明らかにした。フラッシュ・メモリーと相変化型メモリーOUM…
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