技術レター［ＬＳＩ製造］〜β機と新マスクの登場で　注目集める「ＬＥＥＰＬ」　次は量産版マスクが課題
日経マイクロデバイス　第199号　2002.1.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第199号（2002.1.1）
ページ数	1ページ　（全927字）
形式	PDFファイル形式　（25kb）
雑誌掲載位置	29ページ目

露光マスク製造装置　低加速電圧の電子ビーム（ＥＢ）等倍露光技術「Ｌｏｗ　Ｅｎｅｒｇｙ　Ｅ−ｂｅａｍ　Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ　Ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ（ＬＥＥＰＬ）」が「セミコン・ジャパン２００１」で注目を集めた。併設の「ＬＥＥＰＬ技術フォーラム２００１」には，会場に入りきらないほどの聴衆が押し寄せた。ユーザー評価に向けたベータ（β）版装置の完成，最大の課題だった等倍マスクに関する新…