技術レター［ＬＳＩ製造］〜「セミコン・ジャパン　２００１」　ｌｏｗ−ｋやイオン打ち込みに　「微細化＋α」の成果が続出
日経マイクロデバイス　第199号　2002.1.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第199号（2002.1.1）
ページ数	1ページ　（全966字）
形式	PDFファイル形式　（25kb）
雑誌掲載位置	29ページ目

展示会製造技術装置技術　ＬＳＩ製造を原理的な側面から見直すことで通常の微細化以上の効果を実現する「微細化＋α」の技術が１２月に開催された「セミコン・ジャパン２００１」に相次いだ。　装置分野では，これまで学会で報告されていた技術が続々と形になった。低誘電率（ｌｏｗ−ｋ）材料やレジスト材料をノズルから吐出し，ウエーハ上に一筆書きのように塗布するスキャン塗布装置の試作版を，東京エレクトロン（ＴＥＬ）が東…