μレポート［ＬＳＩ製造］〜一歩抜け出た　ＥＢ縮小投影技術　０．０７μｍ以降を担う
日経マイクロデバイス　第198号　2001.12.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第198号（2001.12.1）
ページ数	4ページ　（全4546字）
形式	PDFファイル形式　（120kb）
雑誌掲載位置	192〜195ページ目

微細化露光製造装置電子ビーム（ＥＢ）を使った次世代露光技術の開発競争で，ニコンのＥＢ縮小投影露光技術が実用化に向けて一歩抜け出た。これまでは，縮小投影のほかに低加速電圧のＥＢを使った等倍露光技術やマスクレスの部分一括露光技術が候補に挙がっていた。ここへ来て「装置技術だけではなく，マスクなどのインフラストラクチャの並行開発を強力に進めたニコンの方式が業界で有望視されている」（国内の露光技術者）との指…