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日経マイクロデバイス 第191号 2001.5.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第191号(2001.5.1) |
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ページ数 | 3ページ (全3082字) |
形式 | PDFファイル形式 (76kb) |
雑誌掲載位置 | 149〜151ページ目 |
LSI製造■「SP−1200」 現像後のレジスト線幅を均一に縮小する装置(図1)。一般にマイクロプロセサなどの高速チップではトランジスタのゲート長だけを縮小して高速化する手法が使われている。これまでは現像後のレジストにプラズマ・アッシング処理を加えて線幅を細くしていた。しかし,アッシングは元々レジスト除去が目的であるため,均一に削ることが難しかった。今回は,プラズマを使わずにオゾン・ガスによる化学…
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