技術レター［ＬＳＩ製造］〜次世代製造技術の確立へ　新しい製造装置技術や　生産管理システムが登場
日経マイクロデバイス　第187号　2001.1.1

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掲載誌	日経マイクロデバイス　第187号（2001.1.1）
ページ数	1ページ　（全954字）
形式	PDFファイル形式　（25kb）
雑誌掲載位置	29ページ目

製造装置生産技術ＥＢ　次世代の製造技術の確立に向けた新しい製造装置技術や生産管理システムが，１２月６日〜８日に幕張で開かれた「セミコン・ジャパン　２０００」に登場した。　製造装置技術では，リープルが開発した等倍電子ビーム（ＥＢ）露光や，積水化学工業とケミトロニクスが共同開発した常圧プラズマＣＶＤ（本号，ｐ．３に詳細）が注目を集めた。このうち等倍ＥＢ露光は，従来の縮小ＥＢ露光に対する三つの利点を開発…