技術レター［ＬＳＩ製造］〜Ｆ２露光で 反射光学系を不要にできる技術をＡＳＥＴが開発
日経マイクロデバイス 第187号 2001.1.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第187号（2001.1.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全385字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （25kb） |
| 雑誌掲載位置 | 29ページ目 |
露光技術エキシマ・レーザー微細化 ０．１μｍ以降で実用化を目指すＦ２エキシマ・レーザー露光技術において，反射光学系を使わずに済む可能性が出てきた。超先端電子技術開発機構（ＡＳＥＴ）が開発したＦ２レーザー技術を使うと，従来の屈折光学系が使えるからである。これまで，Ｆ２レーザーの狭帯域化と高エネルギー化の両立は難しく，狭帯域化の必要がない反射光学系が必須と見られてきた。これに対し，ＡＳＥＴはスペクトル…
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