産業ウオッチャ〜０．１〜０．０７μｍを見すえた 国家プロジェクト 活動内容が明らかに
日経マイクロデバイス 第182号 2000.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第182号（2000.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全229字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （52kb） |
| 雑誌掲載位置 | 47ページ目 |
日本ＬＳＩ設計システムＬＳＩ微細化 ０．１〜０．０７μｍのＬＳＩ技術開発に関する次世代国家プロジェクト「あすか」の活動内容の大枠が明らかになってきた。産官学共同で今後取り組む設計・製造技術の研究内容を具体的に計画する。実際の研究・開発は半導体先端テクノロジーズ（Ｓｅｌｅｔｅ）や半導体理工学研究センター（ＳＴＡＲＣ）などが担当する。２０００年の春から，設計・製造のワーキング・グループが予算の策定，実…
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