産業ウオッチャ〜速度が2.5GHz以上の CMOS LSI技術開発が 米国で激化
日経マイクロデバイス 第182号 2000.8.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第182号(2000.8.1) |
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ページ数 | 1ページ (全373字) |
形式 | PDFファイル形式 (52kb) |
雑誌掲載位置 | 48ページ目 |
米国システムLSI高速化インタフェース 2.5〜3.2GHzの高速インタフェースを実現するCMOS LSIの技術開発が米国で激化してきた。ネットワークのインフラストラクチャで先行する米国では,米IBM Corp.,米LSI Logic Corp.,NEC,富士通などのASICメーカーが相次いでこの技術を中核にしたシステム・ソリューションを提供し始めた。ネットワークの高速化に伴い,LSIをつなぐイン…
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