技術レター［ＬＳＩ設計］〜「ＣＩＣＣ ２０００」開催 ＣＭＯＳスケーリングや 低電力回路技術に注目
日経マイクロデバイス 第181号 2000.7.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第181号（2000.7.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全964字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （25kb） |
| 雑誌掲載位置 | 61ページ目 |
学会ＬＳＩ設計システムＬＳＩ 回路技術の国際学会「Ｔｈｅ ２０００ Ｃｕｓｔｏｍ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔｓ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ（ＣＩＣＣ ２０００）」が５月に米国で開かれ，ＣＭＯＳスケーリングの限界についての議論や，ＳＯＩ（ｓｉｌｉｃｏｎ ｏｎ ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）などのデバイス技術，低電力回路技術が話題を集めた。（大石） 招待講演は，米ＩＢＭ Ｃｏｒｐ．のＴａｋ Ｎｉｎｇ氏がＣＭ…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全964字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
産業ウォッチャ〜台湾から中国の Ｓｉファウンドリへの 投資が一部解禁へ
産業ウォッチャ〜Ｉｎｔｅｌのプロセサ不足で 競合メーカーが攻勢 台湾ＰＣメーカーに変化
技術レター［ＬＳＩ設計］〜「３７ｔｈ ＤＡＣ」レポート 論理・物理設計の統合や システム記述言語に進展
技術レター［ＬＳＩ製造］〜低誘電率膜の開発 日米で得意分野が 分かれた「２０００ ＩＩＴＣ」
技術レター［ＬＳＩ製造］〜１Ｇ ＤＲＡＭや１Ｖ動作の ロジック技術が登場した 「ＶＬＳＩ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」
