ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜松下電子の ０．１３〜０．１μｍラインが ２００１年に稼働
日経マイクロデバイス 第180号 2000.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第180号（2000.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全302字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （41kb） |
| 雑誌掲載位置 | 167ページ目 |
工場投資ＬＳＩ製造 松下電子工業半導体社は，２００１年後半に新工場を稼働させる。同社社長の古池進氏が明らかにした。新ラインは，第１期分として２０００年度に１０００億円を投じ，２０００年内に着工，２００１年下期に稼働させる。０．１３〜０．１μｍに対応し，シャロー・トレンチ分離技術やＣｕ配線，低誘電率の層間絶縁膜を導入する。３００ｍｍウエーハは「導入したかったが，装置開発が今回の計画に間に合わなかった…
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