Ｄｅｔａｉｌｓ ＬＳＩ（メモリー）〜高騰するマスク・コストの 問題を一気に解決する 描画技術が登場
日経マイクロデバイス 第178号 2000.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第178号（2000.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2044字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （43kb） |
| 雑誌掲載位置 | 145〜146ページ目 |
ＬＳＩ製造露光技術マスク高騰するマスク・コストの問題を一気を解決する技術が登場した。この２月２７日〜３月３日に米国サンタクララで開かれた「ＳＰＩＥ’ｓ ２５ｔｈ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ（Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ２０００）」で東芝とニコンが共同発表したマスク描画技術である。高価な電子ビーム（ＥＢ）描画装置を不要にしたことと，…
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