ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（メモリー）〜Ｓｅｌｅｔｅが ２０００年度以降の 活動計画を明らかに
日経マイクロデバイス 第175号 2000.1.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第175号（2000.1.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全328字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （37kb） |
| 雑誌掲載位置 | 157ページ目 |
製造装置ウエーハ微細化 半導体先端テクノロジーズ（Ｓｅｌｅｔｅ）は，２０００年度以降の活動計画を「第６回 Ｓｅｌｅｔｅ進捗報告会（ ６ｔｈ Ｓｅｌｅｔｅ Ｐｒｏｇｒａｍ Ｕｐｄａｔｅ）」で発表した。大きく六つある。第１に，０．１３μｍの３００ｍｍウエーハ対応ＬＳＩ製造装置を評価する。第２に，ＬＳＩ工場におけるＣＩＭの低コスト化，高効率化などライン生産効率を向上する。第３に，０．１μｍ以降のポストＡ…
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