特集　Ｐａｒｔ．６〜「セミコン・ジャパン　９９」プレビュー　話題の中心は０．１μｍ向け技術
日経マイクロデバイス　第174号　1999.12.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第174号（1999.12.1）
ページ数	2ページ　（全1770字）
形式	PDFファイル形式　（174kb）
雑誌掲載位置	136〜137ページ目

装置・部材動向展示会製造装置微細化露光話題は０．１μｍ，展示は０．１３μｍ。ここ１〜２年で前倒しした微細化に対応するため，製造装置メーカーがこれら二つの世代の取り組みを本格化させ始めた。０．１μｍ向けには，試作装置の開発に関する議論を真剣に始めた。特に微細化の根幹をなす露光技術に関する話題が最大の論点になっている。０．１３μｍ向けには，試作や少量量産に耐えられる各種製造装置をそろえ始めた。ＬＳＩメ…