新製品ファイル〜「セミコン・ジャパン 99」特集
日経マイクロデバイス 第174号 1999.12.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第174号(1999.12.1) |
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ページ数 | 9ページ (全19152字) |
形式 | PDFファイル形式 (751kb) |
雑誌掲載位置 | 138〜146ページ目 |
超解像なしに0.15μmを実現できる露光装置■KrFスキャン露光装置「PAS5500/700D」(1)位相シフト・マスクや変形照明などの超解像技術を使わずに0.15μmの解像度を実現できるスキャン露光装置。これを実現するため,KrFエキシマ・レーザー露光技術を使い,開口数(NA)を0.7と大きくした。このほかの特徴として,スループットを120枚/時間と,従来の解像度0.15μmのスキャン露光装置に…
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