ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（メモリー）〜次世代露光技術向け マスク技術を米ＩＢＭと 米Ｐｈｏｔｒｏｎｉｃｓが共同開発
日経マイクロデバイス 第170号 1999.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第170号（1999.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全274字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （41kb） |
| 雑誌掲載位置 | 189ページ目 |
露光技術マスク微細化 米ＩＢＭ Ｃｏｒｐ．とマスク・メーカーである米Ｐｈｏｔｒｏｎｉｃｓ， Ｉｎｃ． は，次世代露光技術向けマスク技術を共同開発する。このためのマスク開発センター「Ｍａｓｋ Ｃｅｎｔｅｒ ｏｆ Ｃｏｍｐｅｔｅｎｃｙ」を，米国バーモント州アーリントンにあるＩＢＭのＬＳＩ製造施設内に７月１２日付で設立した。次世代露光技術の候補としては，縮小Ｘ線露光，イオン・プロジェクション露光，電子ビ…
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