ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ　ＬＳＩ（メモリー）〜米Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ　微細マスク・パターンの　自動生成ツールを発売
日経マイクロデバイス　第168号　1999.6.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第168号（1999.6.1）
ページ数	1ページ　（全494字）
形式	PDFファイル形式　（38kb）
雑誌掲載位置	153ページ目

ＣＡＤ微細化提携　米Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，　Ｉｎｃ．は，位相シフト・マスクと光近接効果補正（ＯＰＣ）の両方に対応したマスク・パターンの自動生成ツール「ｉＮ−Ｐｈａｓｅ」を発売する。これは次の三つのモジュールから成る。（１）位相シフト・パターンを自動生成する「ｉＮ−Ｐｈａｓｅ　Ｄｅｓｉｇｎ」，（２）位相シフト・パターンと製造プロセスの整合性を検証して，光近接効果補正が必要か否…