ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（メモリー）〜Ｆ２露光の実用化を 目指した二つの 発表があった「ＳＰＩＥ」
日経マイクロデバイス 第166号 1999.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第166号（1999.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全828字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （39kb） |
| 雑誌掲載位置 | 145ページ目 |
波長１５７ｎｍのＦ２エキシマ・レーザー露光技術の実用化を目指した二つの発表が，３月１４日〜１９日に開かれた「ＳＰＩＥ’ｓ ２４ｔｈ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ」で登場した。第１に，米Ｉｎｔｅｌ Ｃｏｒｐ．がＦ２露光を使った０．１μｍルールの量産を２００３年第３四半期から始めると発表した。２００２年までに開発にメドを立てる。これに合わせた…
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