ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＣＤ〜ＭｇＯ成膜と封着・排気の 一貫処理装置を神港精機と 日本真空技術が共同開発
日経マイクロデバイス 第165号 1999.3.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第165号（1999.3.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全245字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （32kb） |
| 雑誌掲載位置 | 147ページ目 |
神港精機と日本真空技術が，ＰＤＰ（ｐｌａｓｍａ ｄｉｓｐｌａｙ ｐａｎｅｌ）向けにＭｇＯ成膜と封着・排気を一貫処理できる装置を共同開発する。１９９９年秋に試作機を開発し，２０００年秋に製品化する。神港精機が封着・排気部の開発を担当し，日本真空技術がＭｇＯ成膜部を担当する。ＭｇＯ成膜から封着・排気まで真空内で一貫処理するため，スループットの向上が期待できる。「２０００年に稼働する第２世代のＰＤＰラ…
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