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日経マイクロデバイス　第163号　1999.1.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第163号（1999.1.1）
ページ数	3ページ　（全5363字）
形式	PDFファイル形式　（101kb）
雑誌掲載位置	188〜190ページ目

０．１８〜０．１５μｍ向けスキャン露光装置■ＫｒＦスキャン露光装置「ＮＳＲ−Ｓ２０３Ｂ」（１）設計ルール０．１８〜０．１５μｍ向けのＫｒＦエキシマ・レーザー・スキャン露光装置。開口数（ＮＡ）は０．６８，位置合わせバラつきは４０ｎｍである。スループットは２００ｍｍウエーハに対して８５枚／時に高めた。露光領域は２５×３３ｍｍ２。２００ｍｍウエーハだけではなく３００ｍｍウエーハにも対応可能である。（長広…