NewsLetter 実装・一般電子部品〜東芝が持つ高密度配線の 多層基板技術を エルナーが導入へ
日経マイクロデバイス 第163号 1999.1.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第163号(1999.1.1) |
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ページ数 | 1ページ (全307字) |
形式 | PDFファイル形式 (28kb) |
雑誌掲載位置 | 164ページ目 |
プリント基板メーカーのエルナーは,東芝が独自に開発した高密度配線の多層基板技術「B2IT(Buried Bump Interconnection Technology)」のライセンス契約を1999年4月に締結する。エルナーはこの技術を使った携帯電話などに向けた多層基板のサンプル出荷を1999年2月に,量産出荷を1999年4月に開始する。B2ITはビア・ホールをプレスで一括形成できるため「高スルー…
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