Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＨＤＤ用ＴＭＲ素子向けの成膜プロセスアルバックが開発
日経マイクロデバイス 第268号 2007.10.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第268号（2007.10.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全332字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （313kb） |
| 雑誌掲載位置 | 107ページ目 |
アルバックは，ＨＤＤ（ハード・ディスク装置）の再生ヘッドであるＴＭＲ（ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）素子を構成する反強磁性膜を，２００ｍｍウエーハ上に均一に形成する技術を開発した。「面記録密度が５００Ｇ〜８００Ｇビット／（インチ）２のＨＤＤを実現するために必要なＴＭＲ素子の生産性を高められる」（同社）。これまでＨＤＤの面記録密度向上のために，反強磁性膜としてＭｎ３Ｉｒを使…
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