Ｔｕｔｏｒｉａｌ　第５回●アモルファスＳｉ−ＴＦＴ技術〜薄型テレビを目指してプロセス確立に奮闘マスク削減と基板大型化で生産性向上
日経マイクロデバイス　第266号　2007.8.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第266号（2007.8.1）
ページ数	13ページ　（全15172字）
形式	PDFファイル形式　（1114kb）
雑誌掲載位置	89〜101ページ目

液晶ディスプレイの高画質化のためには，アモルファスＳｉ　（ａ−Ｓｉ）の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が必要だった。本号では，ａ−Ｓｉ　ＴＦＴ技術の誕生と，その後の製造工程数削減の歴史を解説する。ＣＶＤでａ−Ｓｉ膜をガラス基板上に低温形成してＴＦＴを作る技術を完成した。その後，ＴＦＴプロセスの工程数を削減し，生産性を上げてコストを低減する取り組みが進む一方で，表示画面の大画面化に対応してガラス基板寸法を…