Ｔｕｔｏｒｉａｌ　連載（４）●バラつき対策に向けた計測技術〜測長ＳＥＭで加工バラつきを計測設計データと連携しＤＦＭに活用へ
日経マイクロデバイス　第266号　2007.8.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第266号（2007.8.1）
ページ数	7ページ　（全6542字）
形式	PDFファイル形式　（1087kb）
雑誌掲載位置	81〜87ページ目

ＭＯＳ　ＦＥＴの特性バラつきをいかに抑えるか。これが微細化に伴う最重要課題との認識が広がってきた。そこで，デバイスの加工形状を測定する物理計測技術が欠かせなくなってきた。連載の第４回は，デバイスの物理計測とそれを活用したプロセス・モニタリングの強力な手段である測長ＳＥＭを紹介する。測長ＳＥＭによるデバイス計測技術開発の最前線のほか，設計との連携によるプロセス制御の取り組みも解説する。（大下　淳一＝…