Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜米Ｍｉｃｒｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ西脇工場に１００億円を投じ９０ｎｍプロセスを導入へ
日経マイクロデバイス 第263号 2007.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第263号（2007.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全430字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （337kb） |
| 雑誌掲載位置 | 100ページ目 |
米Ｍｉｃｒｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｉｎｃ．は，特定用途ＤＲＡＭを製造する同社の西脇工場（兵庫県）に１００億円規模の投資を決めた。同工場では現在，設計ルールが１１０ｎｍ世代のＤＲＡＭを製造している。今回の投資で，同工場の製造能力の半分を９０ｎｍ世代品に切り替える。同工場は，高付加価値の特定用途ＤＲＡＭに特化する２００ｍｍウエーハ対応工場である。携帯電話機などの携帯機器向けやサーバー向け，民生機…
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