Tech−On!Ranking[LSI]〜「歩留まりにかかわるLSI設計情報を活用」大日本印刷がマスク・コスト低減に一策
日経マイクロデバイス 第262号 2007.4.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第262号(2007.4.1) |
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ページ数 | 1ページ (全229字) |
形式 | PDFファイル形式 (329kb) |
雑誌掲載位置 | 99ページ目 |
LSIメーカーが持つ歩留まりにかかわるチップ設計情報を,露光用マスク・メーカーがマスク製造のコスト低減や納期短縮に活用する。こうした体制作りに,マスク業界大手の大日本印刷が乗り出した。同社は,マスク欠陥の歩留まりに対する深刻度の情報をLSIメーカーから得て,マスク製造における検査コストの低減や良品救済などに活用していく。「65nm以降の先端世代を主なターゲットとする」(大日本印刷)という。同社は…
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