Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜量産が始まった液浸露光欠陥レベルはドライ露光と同等に
日経マイクロデバイス 第262号 2007.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第262号（2007.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全243字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （329kb） |
| 雑誌掲載位置 | 99ページ目 |
米カリフォルニア州で開催の「ＳＰＩＥ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ２００７」では，液浸露光とダブル・パターニング，そしてコストをキー・ワードに議論が展開している。液浸露光は試作から量産段階へ移行し始め，ドライ露光と同等の欠陥レベルが達成されるなどその成熟度を示す発表が続いた。ダブル・パターニングはまだ課題の洗い出しの段階にあり，今回は初めて独立セッションが設けられた。液浸露光につい…
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