Ｉｎｓｉｄｅ ＥＤＡ〜顕在化する配線バラつきの影響を使い慣れたＳＴＡ技術で抑制
日経マイクロデバイス 第262号 2007.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第262号（2007.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 8ページ （全9385字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （1588kb） |
| 雑誌掲載位置 | 67〜74ページ目 |
ＮＥＣエレクトロニクスは，論理ＬＳＩ設計に使ってきたＳＴＡ（ｓｔａｔｉｃ ｔｉｍｉｎｇ ａｎａｌｙｓｉｓ）ツールでバラつきの影響を抑える手法を開発した。９０ｎｍ世代でトランジスタ特性のバラつきに対して手を打っていたのに続いて，６５ｎｍ世代で顕在化する配線容量のバラつきの影響に対応した。どちらも論理設計者がＳＳＴＡ（ｓｔａｔｉｃ ＳＴＡ）という特別な技術を使わなくても，バラつきの影響を考慮しながら設…
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