Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜東芝，ソニー，ＮＥＣエレが共同で４５ｎｍ世代の高速論理ＬＳＩ向け技術を開発東芝が２００８年にも量産へ
日経マイクロデバイス 第260号 2007.2.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第260号（2007.2.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全451字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （311kb） |
| 雑誌掲載位置 | 88ページ目 |
東芝，ソニー，ＮＥＣエレクトロニクスの３社は，４５ｎｍ世代の高速論理ＬＳＩ向けプロセス技術を共同で開発した。「Ａ ４５ｎｍ Ｈｉｇｈ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｂｕｌｋ Ｌｏｇｉｃ Ｐｌａｔｆｏｒｍ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（ＣＭＯＳ６）Ｕｓｉｎｇ Ｕｌｔｒａ Ｈｉｇｈ ＮＡ（１．０７）Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ｗｉｔｈ Ｈｙｂｒｉｄ Ｄｕａｌ−Ｄａｍａｓｃｅｎｅ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ…
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