New Products 45nm世代や32nm世代に対応〜45nm世代や32nm世代に対応 エッチング装置システム「Tactras Vigus」
日経マイクロデバイス 第260号 2007.2.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第260号(2007.2.1) |
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ページ数 | 1ページ (全550字) |
形式 | PDFファイル形式 (554kb) |
雑誌掲載位置 | 125ページ目 |
第1メタル配線のハーフピッチがメモリーで45nm以降,ロジックLSIで32nm以降の世代の加工ができるプラズマ・エッチング装置システム(図1)。300mmウエーハに対応する。既存のエッチング装置「Tactras」に,新開発のチャンバ「Vigus」を取り付けた。チャンバの構造などを見直したことで,アスペクト比の高いコンタクト・ホールを短時間で加工したり,加工する膜とエッチング・ストップ膜との選択比…
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