Report[LSI]〜リソに頼らずメモリーを大容量化フラッシュやDRAM,新型で相次ぐ
日経マイクロデバイス 第260号 2007.2.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第260号(2007.2.1) |
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ページ数 | 3ページ (全4322字) |
形式 | PDFファイル形式 (931kb) |
雑誌掲載位置 | 81〜83ページ目 |
NAND型フラッシュ・メモリーのセルを3次元積層する,MRAM(magnetoresistive RAM)を2ビット/セルに多値化する,DRAMチップを貫通電極で積層する。微細化に頼ることなくメモリーの容量を増やすこうした“非微細化技術”の開発事例が,相次いでいる。微細化によらない大容量化手法の提案は従来からあったが,ここへ来て量産を意識したチップで実現するようになった。 さらに,大容量化の手法…
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