Ｓｐｅｃｉａｌ　Ｆｅａｔｕｒｅ〜「セミコン・ジャパン　２００６」プレビュー　液浸露光と３２ｎｍ開発を軸に　装置・部材の事業機会が拡大
日経マイクロデバイス　第258号　2006.12.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第258号（2006.12.1）
ページ数	4ページ　（全3607字）
形式	PDFファイル形式　（729kb）
雑誌掲載位置	33〜36ページ目

液浸露光の普及と３２ｎｍ世代向け技術開発の本格化−。これらが，２００７年以降の半導体装置・部材業界に新たな事業機会を生み出す。ウエーハに液体を接触させる液浸露光の普及は，露光装置だけではなく，塗布・現像装置や洗浄装置，検査装置にも変革が求められる。ＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ　ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）露光や各種新材料の実用化を目指す３２ｎｍ世代向けの技術開発では，新コンセプトのレジスト材料をはじめ，革新…