Tech−On!Ranking[LSI]〜松下とルネサスの 45nm技術共同開発 開口率が1以上の液浸ArF露光などを導入
日経マイクロデバイス 第255号 2006.9.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第255号(2006.9.1) |
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ページ数 | 1ページ (全329字) |
形式 | PDFファイル形式 (248kb) |
雑誌掲載位置 | 94ページ目 |
松下電器産業とルネサス テクノロジは,SoC(system on a chip)向け半導体プロセス技術の共同開発の対象を45nm世代へと拡張していることを正式発表した。2007年度中ごろの技術開発完了と,2008年度の量産開始を目指す。両社は2005年10月に45nm技術の共同開発に着手した。45nm世代のSoC向けとしては業界に先駆けて開口率(NA)が1以上の液浸ArFスキャナを採用した。この…
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