Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＡＳＭＬがＮＡ１．３５の 液浸ＡｒＦ露光装置を発表 純水での解像限界目指す
日経マイクロデバイス 第255号 2006.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第255号（2006.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全385字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （248kb） |
| 雑誌掲載位置 | 94ページ目 |
オランダＡＳＭＬ Ｈｏｌｄｉｎｇ ＮＶは，米国サンフランシスコで７月１０日から開催した「ＳＥＭＩＣＯＮ Ｗｅｓｔ ２００６」において，開口数（ＮＡ）１．３５の液浸ＡｒＦ露光装置「ＸＴ：１９００ｉ」を２００７年半ばに出荷すると発表した。これまで同社は２００７年半ばにＮＡ１．３クラスの液浸装置を出荷するとコメントしてきたが，今回ＮＡの正確な値を示した。発表したＮＡ１．３５は，純水を使った液浸露光装置…
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