Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜次世代半導体の国プロ「ＭＩＲＡＩ」　４５ｎｍ以降は民間の実用化重視
日経マイクロデバイス　第253号　2006.7.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第253号（2006.7.1）
ページ数	2ページ　（全2487字）
形式	PDFファイル形式　（222kb）
雑誌掲載位置	84〜85ページ目

　次世代の半導体プロセスを開発する国家プロジェクトである半導体ＭＩＲＡＩプロジェクトが，民間での実用化を強く意識した形に生まれ変わった（図１）。ＭＩＲＡＩでは計６件の研究テーマを抱えるが，このうち４件を民間コンソーシアムの半導体先端テクノロジーズ（Ｓｅｌｅｔｅ）が受託する。ＭＩＲＡＩのプロジェクト・リーダーをＳｅｌｅｔｅ社長の渡辺久恒氏が務める。渡辺氏は，ＳｅｌｅｔｅとＭＩＲＡＩの連携を進める「つ…