Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ソニーが 米Ｓｙｎｏｐｓｙｓの位相シフト・マスク技術を ＳｏＣ生産に採用
日経マイクロデバイス 第252号 2006.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第252号（2006.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全314字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （123kb） |
| 雑誌掲載位置 | 94ページ目 |
米Ｓｙｎｏｐｓｙｓ， Ｉｎｃ．は，同社の位相シフト・マスク技術「ＡＡ−ＰＳＭ（Ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ Ａｐｅｒｔｕｒｅ Ｐｈａｓｅ Ｓｈｉｆｔ Ｍａｓｋ）」を，ソニーがＳｏＣ（ｓｙｓｔｅｍ ｏｎ ａ ｃｈｉｐ）生産向けに採用したと発表した。ＡＡ−ＰＳＭ技術は，Ｓｙｎｏｐｓｙｓが提供するＤＦＭ（ｄｅｓｉｇｎ ｆｏｒ ｍａｎｕｆａｃｔｕｒａｂｉｌｉｔｙ）ソリューションの重要な構成要素であり，解像度の…
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