Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜Ｓｉ−ＴＦＴの低コスト製造技術 液体Ｓｉとインクジェットで
日経マイクロデバイス 第251号 2006.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第251号（2006.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2719字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （72kb） |
| 雑誌掲載位置 | 78〜79ページ目 |
インクジェット技術を使って，Ｓｉ−ＴＦＴを低コストに作る。セイコーエプソンとＪＳＲは，こうしたＳｉデバイスの新しい製造手法を共同開発した。この技術を使うと，将来的にリソグラフィやＣＶＤといった高コストのプロセスが不要になり，デバイス作製コストを削減できる（図１）。有機系で先行，「ようやくＳｉに」 両社は，ＴＦＴ向けのＳｉ膜をインクジェット技術で作製できることを実証した。今回はＴＦＴのチャネル部だ…
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