New Products 処理時間を1〜2ケタ削減〜処理時間を1〜2ケタ削減
日経マイクロデバイス 第250号 2006.4.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第250号(2006.4.1) |
---|---|
ページ数 | 1ページ (全588字) |
形式 | PDFファイル形式 (124kb) |
雑誌掲載位置 | 109ページ目 |
処理時間を従来よりも1〜2ケタ削減できるOPC(光近接効果補正)パターン生成システム(図4)。一般に65nmノード(hp90)以降のOPCパターンは,露光シミュレーションを繰り返しながら形状を決めていくため,処理時間が長くなってしまう。今回は,回路レイアウトを多くの領域に分けて並列計算する手法を採用すると共に,専用のハードウェア・アクセラレータを使うことで高速化を図った。例えば,通常のワークステ…
記事の購入(ダウンロード)
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円(税込)
他のIDで購入する
G-Search ミッケ!は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ(全588字)」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
(注)特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。