Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜「４５ｎｍ以降のＬＳＩプロセス材料を開発」 ＪＳＲが新クリーン・ルーム棟を竣工
日経マイクロデバイス 第249号 2006.3.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第249号（2006.3.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全280字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （257kb） |
| 雑誌掲載位置 | 83ページ目 |
ＪＳＲは，三重県四日市市の同社研究所内に新クリーン・ルーム棟を建設した。４５ｎｍノード以降のＬＳＩの製造に使う露光用レジスト材料や，大型液晶ディスプレイ向け部材の開発に使う。新クリーン・ルーム棟には，既に露光装置や解析装置などを搬入し始めており，２００６年第１四半期中に稼働する。初年度は，設備費などを含め３５億円程度を投資する計画である。同クリーン・ルーム棟は５層構造で，床面積は５２００ｍ２。ク…
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