Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＥＤＡ］〜ＮＥＣエレ，６５ｎｍプロセスの立ち上げで 米Ｓｙｎｏｐｓｙｓから位相シフト技術を導入
日経マイクロデバイス 第248号 2006.2.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第248号（2006.2.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全246字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （250kb） |
| 雑誌掲載位置 | 95ページ目 |
米Ｓｙｎｏｐｓｙｓ， Ｉｎｃ．は，ＮＥＣエレクトロニクスが６５ｎｍのロジックＬＳＩとプロセサ・チップに向けて，Ｓｙｎｏｐｓｙｓの位相シフト技術を導入したと発表した。ＮＥＣエレは，まず６５ｎｍプロセスの立ち上げに同技術を活用するという。同社 生産事業本部 プロセス技術事業部 事業部長の井上修一氏は「同技術を使うことで，手持ちの露光装置の解像度を上げられる。これによって，６５ｎｍチップの歩留まりを上…
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