Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜液浸ＡｒＦ露光の延命見すえた ダブル・パターニングとＤＦＭに注目
日経マイクロデバイス 第248号 2006.2.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第248号（2006.2.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全2149字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （173kb） |
| 雑誌掲載位置 | 80ページ目 |
液浸ＡｒＦ露光の延命を見すえた技術開発。これが，２月に米国で開かれる露光技術の国際会議「３１ｓｔ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｍｉｃｒｏ−ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ（Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ２００６）」での焦点になる。中でも注目できるのが，露光・加工を２回に分けて微細なパターンを形成するダブル・パターニング注１）や，回路レイアウトを解像しやすい形に最適化するＤＦＭ…
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