Ｋｅｙ Ｗｏｒｄ 今月のキー・ワード〜『ＬＥＲ／ＬＷＲ』
日経マイクロデバイス 第248号 2006.2.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第248号（2006.2.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1091字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （132kb） |
| 雑誌掲載位置 | 13ページ目 |
製造バラつきの一種であるＬＥＲ（ｌｉｎｅ ｅｄｇｅ ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）やＬＷＲ（ｌｉｎｅ ｗｉｄｔｈ ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）を減らすための技術開発が加速している。ＬＥＲとは，ゲート電極のような微細パターンの壁面に出来た凹凸の大きさを表す値である。ＬＷＲは凹凸によって生じたパターン幅のバラつきを示している。パターン寸法を膜厚で制御 ＬＥＲやＬＷＲの値が大きいと，トランジスタの特性が著しく劣化する。…
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