Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＡＳＭＬの液浸ＡｒＦ露光装置 業界最大のＮＡ１．２を実現
日経マイクロデバイス 第243号 2005.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第243号（2005.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全237字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （261kb） |
| 雑誌掲載位置 | 81ページ目 |
オランダＡＳＭ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ社（ＡＳＭＬ）は，開口数（ＮＡ）が１．２と大きい液浸ＡｒＦ露光装置「ＸＴ：１７００ｉ」を発表した。このＮＡ値は，ニコンが６月末に発表した１．０７を上回り，現時点で業界最大となる。解像度は４５ｎｍを達成できる。２００６年第１四半期に１号機を出荷する。レンズと反射ミラーを組み合わせた反射屈折型の光学系を採用して「レンズ硝材を４０％削減し，ＮＡを１５％拡大できた」…
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