Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］ 導入進むプラズマ酸窒化装置，１０社を超えるＬＳＩメーカー〜導入進むプラズマ酸窒化装置 １０社を超えるＬＳＩメーカーが採用
日経マイクロデバイス 第238号 2005.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第238号（2005.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 4ページ （全3133字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （131kb） |
| 雑誌掲載位置 | 100〜103ページ目 |
プラズマ酸窒化装置をＬＳＩのトランジスタ形成工程に導入する動きが本格化してきた。これまでは高品質な酸窒化膜を形成できる熱処理装置が主流だったが，ここへ来て低ダメージ化を進めたプラズマ装置が存在感を強めている。その代表例が，東京エレクトロンの「ＲＬＳＡ（ｒａｄｉａｌ ｌｉｎｅ ｓｌｏｔ ａｎｔｅｎｎａ）」プラズマ酸窒化装置である（図１，図２）。ロジックＬＳＩだけではなく，フラッシュ・メモリーやＤＲ…
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