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Inside LSI〜「屈折率よりレジストとの反応性を優先」 JSRが高屈折率液体の開発指針を明らかに
日経マイクロデバイス 第238号 2005.4.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第238号(2005.4.1) |
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ページ数 | 5ページ (全8106字) |
形式 | PDFファイル形式 (107kb) |
雑誌掲載位置 | 78〜82ページ目 |
稗田 克彦JSR 電子材料事業部宮松 隆,王 勇,中川 大樹,中村 敦JSR 精密電子研究所 高屈折率液体を開発する上で,独自の材料選択指針を導入した(図10)。屈折率の高さより,レジストとの反応性の低さを優先する考え方である。結果として,屈折率1.64,透過率98%/mmの液体を開発できた。この液体を2光束干渉型の露光装置に使い,液浸ArF技術で32nmの線幅/線間隔パターンの解像に成功している…
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