Report[LSI]〜65〜45nmの製造・検査技術は ITを駆使したプロセス制御が重要に
日経マイクロデバイス 第233号 2004.11.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第233号(2004.11.1) |
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ページ数 | 2ページ (全4237字) |
形式 | PDFファイル形式 (229kb) |
雑誌掲載位置 | 94〜95ページ目 |
半導体製造関連で最大の学会「ISSM(International Symposium on Semiconductor on Manufacturing)2004」が,9月27〜29日に東京で開催された注1),注2)。今回は,複数の工程にまたがるプロセス技術をIT(情報通信)技術によって制御・統合するための論文がこれまで以上に多かった。 その背景には,65 nm(hp90)〜45nm(hp65)…
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