Ｃｏｖｅｒ　Ｓｔｏｒｙ　Ｐａｒｔ１　４５ｎｍは“戦略的微細化”で突破〜４５ｎｍノードが技術の転換点　アプリケーションごとに材料や構造を変更
日経マイクロデバイス　第233号　2004.11.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第233号（2004.11.1）
ページ数	3ページ　（全3420字）
形式	PDFファイル形式　（626kb）
雑誌掲載位置	34〜36ページ目

４５ｎｍノード（ｈｐ６５）に向けて，ＬＳＩメーカーは微細化技術で大きな選択を迫られる。従来は，標準のプロセス技術のゲート酸化膜厚などを調整して高性能版，標準版，低電力版の製品仕様に対応できた。４５ｎｍ（ｈｐ６５）以降は，それぞれの製品仕様ごとに別のデバイスとしてプロセス技術を開発する必要がある。開発負担は増大し，既存の開発リソースでは対応できなくなるため，微細化に“戦略性”が求められる。どの製品領…