Ｔｕｔｏｒｉａｌ：ＳｏＣ一発動作のための最新ＬＳＩ設計法＆ＥＤＡ〜跳ね上がるマスク・コスト 補正技術を設計に生かす 背景にはＡｒＦリソグラフィの延命がある
日経マイクロデバイス 第232号 2004.10.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第232号（2004.10.1） |
|---|---|
| ページ数 | 6ページ （全6542字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （1199kb） |
| 雑誌掲載位置 | 104〜109ページ目 |
須賀 治先端ＳＯＣ基盤技術開発（ＡＳＰＬＡ）技術部西口 信行半導体理工学研究センター（ＳＴＡＲＣ）設計技術開発部２００４年７月号から３回連続して紹介してきたインプリメンテーション設計工程が，今回のレイアウト検証で完了する。次の工程であるマスク設計に移る。かつてマスク設計では，インプリメンテーション設計データをマスク製造のためのデータに変換すること自体が重要だった。最近は製造プロセスが微細化したこと…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 550円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「6ページ（全6542字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
ＷＥＢ Ａｃｃｅｓｓ Ｒａｎｋｉｎｇ［Ｄｉｓｐｌａｙ］〜韓国最大のディスプレイの学会 「Ａｓｉａ Ｄｉｓｐｌａｙ／ＩＭＩＤ ’０４」が開幕
ＷＥＢ Ａｃｃｅｓｓ Ｒａｎｋｉｎｇ［Ｄｉｓｐｌａｙ］〜「ＡＭ−ＬＣＤ」で，ＴＦＴの過去から 有機デバイスの最新研究までを総覧
Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ〜複合顕微鏡「ナノサーチ顕微鏡」
Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ〜粒径分布測定装置「ＬＡ−９５０」
Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ〜デジタル・オシロスコープ「ＴＰＳ２０００シリーズ」
